4 ਇੰਚ SiC Wafers 6H ਅਰਧ-ਇੰਸੂਲੇਟਿੰਗ SiC ਸਬਸਟਰੇਟਸ ਪ੍ਰਾਈਮ, ਖੋਜ, ਅਤੇ ਡਮੀ ਗ੍ਰੇਡ
ਉਤਪਾਦ ਨਿਰਧਾਰਨ
| ਗ੍ਰੇਡ | ਜ਼ੀਰੋ MPD ਉਤਪਾਦਨ ਗ੍ਰੇਡ (Z ਗ੍ਰੇਡ) | ਮਿਆਰੀ ਉਤਪਾਦਨ ਗ੍ਰੇਡ (ਪੀ ਗ੍ਰੇਡ) | ਡਮੀ ਗ੍ਰੇਡ (ਡੀ ਗ੍ਰੇਡ) | ||||||||
| ਵਿਆਸ | 99.5 ਮਿਲੀਮੀਟਰ~100.0 ਮਿਲੀਮੀਟਰ | ||||||||||
| 4H-SI | 500 μm±20 μm | 500 μm±25 μm | |||||||||
| ਵੇਫਰ ਓਰੀਐਂਟੇਸ਼ਨ |
ਧੁਰੀ ਬੰਦ: 4H-N ਲਈ 4.0° <1120 > ±0.5° ਵੱਲ, ਧੁਰੇ 'ਤੇ: <0001>±0.5° 4H-SI ਲਈ | ||||||||||
| 4H-SI | ≤1cm-2 | ≤5 ਸੈ.ਮੀ-2 | ≤15 ਸੈ.ਮੀ-2 | ||||||||
| 4H-SI | ≥1E9 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||||||||
| ਪ੍ਰਾਇਮਰੀ ਫਲੈਟ ਓਰੀਐਂਟੇਸ਼ਨ | {10-10} ±5.0° | ||||||||||
| ਪ੍ਰਾਇਮਰੀ ਫਲੈਟ ਲੰਬਾਈ | 32.5 mm±2.0 mm | ||||||||||
| ਸੈਕੰਡਰੀ ਫਲੈਟ ਲੰਬਾਈ | 18.0 mm±2.0 mm | ||||||||||
| ਸੈਕੰਡਰੀ ਫਲੈਟ ਸਥਿਤੀ | ਸਿਲੀਕਾਨ ਫੇਸ ਅੱਪ: 90° CW।ਪ੍ਰਾਈਮ ਫਲੈਟ ±5.0° ਤੋਂ | ||||||||||
| ਕਿਨਾਰਾ ਬੇਦਖਲੀ | 3 ਮਿਲੀਮੀਟਰ | ||||||||||
| LTV/TTV/ਬੋ/ਵਾਰਪ | ≤3 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm | ≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm | |||||||||
| ਖੁਰਦਰੀ | ਸੀ ਚਿਹਰਾ | ਪੋਲਿਸ਼ | Ra≤1 nm | ||||||||
| ਸੀ ਚਿਹਰਾ | ਸੀ.ਐੱਮ.ਪੀ | Ra≤0.2 nm | Ra≤0.5 nm | ||||||||
| ਉੱਚ ਤੀਬਰਤਾ ਵਾਲੀ ਰੋਸ਼ਨੀ ਦੁਆਰਾ ਕਿਨਾਰੇ ਦੀ ਚੀਰ | ਕੋਈ ਨਹੀਂ | ਸੰਚਤ ਲੰਬਾਈ ≤ 10 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਿੰਗਲ ਲੰਬਾਈ≤2 ਮਿਲੀਮੀਟਰ | |||||||||
| ਹਾਈ ਇੰਟੈਂਸਿਟੀ ਲਾਈਟ ਦੁਆਰਾ ਹੈਕਸ ਪਲੇਟਾਂ | ਸੰਚਤ ਖੇਤਰ ≤0.05% | ਸੰਚਤ ਖੇਤਰ ≤0.1% | |||||||||
| ਉੱਚ ਤੀਬਰਤਾ ਵਾਲੀ ਰੋਸ਼ਨੀ ਦੁਆਰਾ ਪੌਲੀਟਾਈਪ ਖੇਤਰ | ਕੋਈ ਨਹੀਂ | ਸੰਚਤ ਖੇਤਰ≤3% | |||||||||
| ਵਿਜ਼ੂਅਲ ਕਾਰਬਨ ਸੰਮਿਲਨ | ਸੰਚਤ ਖੇਤਰ ≤0.05% | ਸੰਚਤ ਖੇਤਰ ≤3% | |||||||||
| ਉੱਚ ਤੀਬਰਤਾ ਵਾਲੀ ਰੋਸ਼ਨੀ ਦੁਆਰਾ ਸਿਲੀਕਾਨ ਦੀ ਸਤਹ ਖੁਰਚ ਜਾਂਦੀ ਹੈ | ਕੋਈ ਨਹੀਂ | ਸੰਚਤ ਲੰਬਾਈ≤1＊ਵੇਫਰ ਵਿਆਸ | |||||||||
| ਤੀਬਰਤਾ ਦੀ ਰੌਸ਼ਨੀ ਦੁਆਰਾ ਉੱਚੇ ਕਿਨਾਰੇ ਚਿਪਸ | ਕੋਈ ਵੀ ਇਜਾਜ਼ਤ ਨਹੀਂ ≥0.2 ਮਿਲੀਮੀਟਰ ਚੌੜਾਈ ਅਤੇ ਡੂੰਘਾਈ | 5 ਦੀ ਇਜਾਜ਼ਤ ਹੈ, ≤1 ਮਿਲੀਮੀਟਰ ਹਰੇਕ | |||||||||
| ਉੱਚ ਤੀਬਰਤਾ ਦੁਆਰਾ ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਤਹ ਦੀ ਗੰਦਗੀ | ਕੋਈ ਨਹੀਂ | ||||||||||
| ਪੈਕੇਜਿੰਗ | ਮਲਟੀ-ਵੇਫਰ ਕੈਸੇਟ ਜਾਂ ਸਿੰਗਲ ਵੇਫਰ ਕੰਟੇਨਰ | ||||||||||
ਵਿਸਤ੍ਰਿਤ ਚਿੱਤਰ
ਆਪਣਾ ਸੁਨੇਹਾ ਇੱਥੇ ਲਿਖੋ ਅਤੇ ਸਾਨੂੰ ਭੇਜੋ
