SiO2 ਪਤਲੀ ਫਿਲਮ ਥਰਮਲ ਆਕਸਾਈਡ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰ 4 ਇੰਚ 6 ਇੰਚ 8 ਇੰਚ 12 ਇੰਚ
ਵੇਫਰ ਬਾਕਸ ਦੀ ਜਾਣ-ਪਛਾਣ
ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਡ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰਾਂ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਦੀ ਮੁੱਖ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਕਦਮ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ: ਮੋਨੋਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਨ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵਾਧਾ, ਵੇਫਰਾਂ ਵਿੱਚ ਕੱਟਣਾ, ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨਾ, ਸਫਾਈ ਕਰਨਾ ਅਤੇ ਆਕਸੀਕਰਨ।
ਮੋਨੋਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਨ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵਾਧਾ: ਪਹਿਲਾਂ, ਮੋਨੋਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਨ ਸਿਲੀਕਾਨ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨਾਂ 'ਤੇ ਜ਼ੋਕਰਾਲਸਕੀ ਵਿਧੀ ਜਾਂ ਫਲੋਟ-ਜ਼ੋਨ ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਉਗਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਵਿਧੀ ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਅਤੇ ਜਾਲੀ ਦੀ ਇਕਸਾਰਤਾ ਦੇ ਨਾਲ ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਿੰਗਲ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਦੀ ਤਿਆਰੀ ਨੂੰ ਸਮਰੱਥ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।
ਡਾਈਸਿੰਗ: ਉੱਗਿਆ ਮੋਨੋਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਨ ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇੱਕ ਸਿਲੰਡਰ ਆਕਾਰ ਵਿੱਚ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਵੇਫਰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਵਜੋਂ ਵਰਤਣ ਲਈ ਪਤਲੇ ਵੇਫਰਾਂ ਵਿੱਚ ਕੱਟਣ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਕੱਟਣਾ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਹੀਰਾ ਕਟਰ ਨਾਲ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।
ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ: ਕੱਟੇ ਹੋਏ ਵੇਫਰ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਅਸਮਾਨ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਇੱਕ ਨਿਰਵਿਘਨ ਸਤਹ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਰਸਾਇਣਕ-ਮਕੈਨੀਕਲ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।
ਸਫਾਈ: ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਵੇਫਰ ਨੂੰ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਅਤੇ ਧੂੜ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਸਾਫ਼ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।
ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਿੰਗ: ਅੰਤ ਵਿੱਚ, ਸਿਲੀਕੋਨ ਵੇਫਰਾਂ ਨੂੰ ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਿੰਗ ਟ੍ਰੀਟਮੈਂਟ ਲਈ ਇੱਕ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਵਾਲੀ ਭੱਠੀ ਵਿੱਚ ਰੱਖਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਜੋ ਇਸਦੀਆਂ ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਅਤੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਤਾਕਤ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਸਿਲਿਕਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਇੱਕ ਸੁਰੱਖਿਆ ਪਰਤ ਬਣਾਉਣ ਦੇ ਨਾਲ-ਨਾਲ ਏਕੀਕ੍ਰਿਤ ਸਰਕਟਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਇੰਸੂਲੇਟਿੰਗ ਪਰਤ ਵਜੋਂ ਕੰਮ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕੇ।
ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਡ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰਾਂ ਦੇ ਮੁੱਖ ਉਪਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਏਕੀਕ੍ਰਿਤ ਸਰਕਟਾਂ ਦਾ ਨਿਰਮਾਣ, ਸੂਰਜੀ ਸੈੱਲਾਂ ਦਾ ਨਿਰਮਾਣ, ਅਤੇ ਹੋਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਉਪਕਰਨਾਂ ਦਾ ਨਿਰਮਾਣ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ।ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਕਸਾਈਡ ਵੇਫਰਾਂ ਨੂੰ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਉਹਨਾਂ ਦੀਆਂ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ, ਅਯਾਮੀ ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਸਥਿਰਤਾ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨਾਂ ਅਤੇ ਉੱਚ ਦਬਾਅ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਨ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਦੇ ਨਾਲ-ਨਾਲ ਚੰਗੀ ਇੰਸੂਲੇਟਿੰਗ ਅਤੇ ਆਪਟੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।
ਇਸ ਦੇ ਫਾਇਦਿਆਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਸੰਪੂਰਨ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਬਣਤਰ, ਸ਼ੁੱਧ ਰਸਾਇਣਕ ਰਚਨਾ, ਸਟੀਕ ਮਾਪ, ਚੰਗੀਆਂ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਆਦਿ ਸ਼ਾਮਲ ਹਨ। ਇਹ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਕਸਾਈਡ ਵੇਫਰਾਂ ਨੂੰ ਉੱਚ-ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਵਾਲੇ ਏਕੀਕ੍ਰਿਤ ਸਰਕਟਾਂ ਅਤੇ ਹੋਰ ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਲਈ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਤੌਰ 'ਤੇ ਢੁਕਵਾਂ ਬਣਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ।
ਵਿਸਤ੍ਰਿਤ ਚਿੱਤਰ
